Esfrega esfrega tradicional do laser tem uma variedade de métodos de limpeza, principalmente utilizando métodos mecânicos e agentes químicos para a limpeza. Sob os regulamentos de proteção ambiental cada vez mais rigorosas na China e consciência crescente do povo, da protecção ambiental e de segurança, os tipos de produtos químicos que podem ser usados na produção industrial e a limpeza vão se tornar cada vez menos.
Encontrar métodos de limpeza mais limpos e não-invasiva, é um problema que temos que considerar. Limpeza do laser é caracterizada por nenhuma limpeza, sem contato, não térmicos efeitos e objetos apropriados para vários materiais. Considera-se ser a solução mais confiável e mais eficaz. Ao mesmo tempo, limpeza do laser pode resolver o problema insolúvel da métodos limpeza tradicional
Princípio de limpeza a laser
O laser de Nd: YAG pulsado limpeza processo baseia-se nas características das pulsos de luz geradas pelo laser, baseado na reação de photophysical causada pela interação entre o feixe de alta intensidade, o laser de pulso curto e a camada de contaminação. O princípio físico pode ser resumido como segue
r. o feixe emitido pelo laser é absorvido pela camada de contaminação na superfície a ser tratada
c. ondas de choque contaminam e remover contaminantes.
O plasma é gerado apenas quando a densidade de energia estiver acima do limite, que depende da camada de contaminação ou camada de óxido removido. Este efeito limiar é muito importante para a limpeza eficaz do material base. Há um segundo limiar para a presença de plasma. Se a densidade de energia exceder este limite, a matéria-prima será destruída. Para realizar uma limpeza mais eficaz na premissa de assegurar a segurança do material de base, os parâmetros do laser devem ser ajustados de acordo com a situação, para que a densidade de energia do pulso de luz é estritamente entre dois limiares.
Cada pulso de laser remove uma definido espessura da camada de contaminação. Se a camada de contaminação é grossa, pulsos múltiplos são necessários para a limpeza. O número de pulsos necessários para limpar a superfície depende do grau de contaminação de superfície. Gerado por dois limiares - um resultado importante é o auto-controle da limpeza. Pulsos de luz, com uma densidade de energia maior do que o primeiro limiar diretamente rejeitará contaminantes até atingir o material de substrato. No entanto, porque a sua densidade de energia é inferior ao limiar de dano do material base, a base não está danificada.
