Com os requisitos cada vez mais altos para a precisão da limpeza de pedras de alta qualidade e a crescente conscientização da proteção ambiental humana, a tecnologia de limpeza a laser está sendo reconhecida e desenvolvida como um novo método de limpeza. A tecnologia de limpeza a laser utiliza principalmente raios laser para remover os acessórios da superfície a serem limpos a alta velocidade. Ele economiza tempo, esforço e água, além de ser seguro, confiável, amplamente aplicável e fácil de controlar automaticamente. Especialmente para esculturas em pedra, esculturas em pedra, estruturas de pedra fina, como vários cantos, e artefatos de pedra à moda antiga e outras limpezas de pedra de alta qualidade, as vantagens da tecnologia de limpeza a laser são inigualáveis por muitas técnicas tradicionais de limpeza. Portanto, pode-se dizer que a limpeza a laser é um grande avanço na tecnologia de limpeza, e a promoção e a aplicação da tecnologia de limpeza a laser certamente tornarão a indústria de limpeza de pedras ainda mais poderosa. Da superfície do objeto; Terceiro, as moléculas de sujeira serão vaporizadas, vaporizadas ou decompostas instantaneamente. A tecnologia de limpeza a laser é o uso da vibração de pulso a laser, a expansão térmica das partículas e a decomposição da luz molecular ou mudança de fase de três tipos de papel ou seu efeito combinado para superar a força de ligação entre a superfície da sujeira e o material substrato , de modo que é fora da superfície do objeto para alcançar O propósito da limpeza.
De acordo com a análise das propriedades ópticas do material de matriz limpo e dos contaminantes, o mecanismo de limpeza a laser pode ser dividido em duas categorias: uma é a diferença no coeficiente de absorção da energia do laser em um determinado comprimento de onda devido à adesão o material do substrato e a sujeira da superfície, de modo que o laser A energia é totalmente absorvida pela sujeira conectada, para que seja termicamente expandida ou vaporizada e volatilizada, e a corrente vaporizada formada pela vaporização se afasta do material da matriz para atingir o objetivo de limpeza. A exigência é que o coeficiente de absorção da energia do laser do material da matriz seja pequeno.
As forças combinadas de sujeira e superfícies de pedra são principalmente forças químicas físicas e fracas. Forças químicas fracas incluem ligações de hidrogênio e a energia de ligação formada pela transferência de carga. Forças físicas incluem forças de van der Waals (incluindo eletrostáticas, induzidas e dispersivas) e forças capilares. A razão pela qual a pedra é mais difícil de limpar do que outros materiais de superfície é devido à existência de um grande número de micro-poros em pedra natural. A força capilar dos microporos não apenas aumenta as várias forças de união entre a sujeira e a pedra, mas também causa o efeito de envolvimento de cada uma. É difícil para a força de limpeza funcionar.
O laser é um tipo de radiação de luz com boa monocromática e direcionalidade. A combinação de espelhos pode focar o feixe e concentrar o feixe em uma pequena área ou área. O feixe de laser pode produzir pelo menos três aspectos: Primeiro, ele produzirá ressonância mecânica na superfície sólida para fazer com que a camada superficial ou o condensado se partam; segundo, expandirá a camada superficial para superar a adsorção do material do substrato nas partículas de sujeira. Ele não será danificado, portanto, a chave para obter uma limpeza segura e eficiente é escolher o comprimento de onda do laser correto e controlar a densidade de energia moderada. O outro tipo é que o coeficiente de absorção do feixe de laser entre a substância substrato e a substância de ligação superficial não é muito diferente, ou a limpeza da substância de fixação na superfície ao produzir substâncias tóxicas é geralmente realizada por pulso de alta freqüência e potência . Na superfície, alguns dos feixes de luz são convertidos em ondas sonoras. As ondas sonoras retornam depois de atingir a superfície dura da camada intermediária inferior. A parte retornada interfere com as ondas sonoras geradas pelo homem geradas pelo laser, gerando ondas ressonantes de alta energia, causando pequenas rachaduras na camada de escamação, causando o esmagamento e é fácil de esmagar. Retire da superfície do substrato.
Para a limpeza da superfície da pedra, os mecanismos acima são freqüentemente usados em combinação. A freqüência de pulsos de luz de laser (0,5 a 30 pulsos por segundo) e amplitude (8 a 25 ns) são geralmente baseados na condição da pedra tratada e sujeira, permitindo que o material de sujeira absorva adequadamente a energia da luz. O impacto da freqüência repetitiva do laser de pulso pode afrouxar a escala de coque na superfície da pedra e nos microporos. Quando a força de impacto do laser é maior do que a força de adsorção do substrato para as partículas de sujeira, as partículas de sujeira se separam do substrato para atingir a finalidade de limpeza. Quando a energia do fóton do laser é maior que a das moléculas incrustantes (camada de adesão), os efeitos de fotodecomposição e fotoexfoliação dos lasers exercem seus efeitos um após o outro. Por exemplo, a energia do fóton do laser excimer KrF é 5 eV, que é maior do que os contaminantes orgânicos OO, HH, OH, CC, A energia de ligação de CH e NH e outras ligações químicas, o papel do laser pode destruir parte do ligação química, decompor a matéria orgânica, que pode limpar o óleo orgânico. Quando a densidade de energia do feixe de laser aumenta ainda mais, alguma sujeira inorgânica. Por exemplo, sais contendo K, Na e substâncias inorgânicas geradas por fotodecomposição por solos orgânicos podem ser expandidos termicamente pelo laser para gerar o peeling térmico (isto é, foto-decapagem) para separar da superfície do substrato. A fim de utilizar plenamente várias funções do laser e aumentar o efeito de limpeza do laser, a superfície do substrato a ser limpo é artificialmente revestida com um pouco de água ou um líquido misturado de água e metanol ou etanol antecipadamente. Quando a luz do laser é irradiada no filme líquido, o filme líquido será vaporizado explosivamente devido ao rápido aquecimento, e o impacto da explosão irá soltar a sujeira na superfície do substrato e voar para longe da superfície do substrato com a luz. onda de choque para atingir o objetivo de descontaminação. Neste método, embora a vibração das partículas de sujeira e a expansão térmica das partículas também existam, o efeito da onda de choque explosiva é dominante. Este método também é chamado de método de filme líquido + laser. A espessura da película líquida que cobre a superfície do substrato é geralmente de 10 / m. .
